Natapos nitong Huwebes, Enero 31, local time, sa Washington D.C. ang dalawang araw na talastasang pangkalakalan ng Tsina't Amerika sa mataas na antas. Nagtamo ang katatapos na talastasan ng mahalagang progreso hinggil sa pagbabalanse ng bilateral na kalakalan, paglilipat ng teknolohiya, pangangalaga sa karapatan sa pagmamay-ari ng likhang-isip (IPR), mekanismo ng pagpapatupad, at iba pa.
Sumang-ayon ang dalawang bansa na pahigpitin ang pagtutulungan sa larangan ng paglilipat ng teknolohiya. Pag-iibayuhin din ng Tsina ang pag-aangkat ng mga paninda mula sa sektor ng agrikultura, enerhiya, industriya ng paggawa, serbisyo ng Amerika para matugunan ang pangangailangan ng mga mamamayang Tsino.
Nagpasiya ang magkabilang panig na idaos ang bagong round ng talastasan sa kalagitnaan ng buwang ito, sa Beijing.
Pagkatapos ng talastasan, kinatagpo ni Pangulong Donald Trump ng Estados Unidos si Liu He, Pangalawang Premyer at punong koordinador ng Tsina sa nasabing talastasan. Kinilala ng magkabilang panig ang mga natamong bunga ng katatapos na talastasan. Umaasa anila silang mararating ang kasunduang pangkalakalan na makakabuti sa kapuwa panig sa lalong madaling panahon.
Masasabing nakamtan ng Tsina't Amerika ang pinakahuling progreso sa paglutas sa alitang pangkalakalan na may win-win result na bunga ng katapatan at paggagalangan ng magkabilang panig. Sa talastasan, kapuwa ipinahayag ang kani-kanilang pagkabahala at batay rito, buong sikap na hinanap ng magkabilang panig ang komong interes sa iba't ibang paksa. Kung itutuloy ng dalawang bansa ang ganitong paraan, magkakaroon sila ng mga bagong pagkakataon para sa komong kaunlaran.
Salin: Jade
Pulido: Mac